半导体芯片加工废水怎么处理|半导体芯片加工废水如何处理
该项目经验
该半导体设备单位设在长四角各地,最主要的生育85厘米和125厘米晶圆,日释放废水流量约2000吨。因生育技术冗杂,废水里面所含四种难溶解有机的物和血本属正离子,一般治理 方式方法其特性很难需求也日益认真的释放标准单位。
生活污水材料及源于
废污水处理方法大部分的来出自于四位节点:晶圆激光切废污水处理方法内含过多硅粉和激光切液留下;化学上物理打磨抛光废污水处理方法具有刺激性悬浊液硅和研磨机粒状;刻蚀的清洗废污水处理方法内含氟化物、铜阴离子等高价属;光刻生产工艺废污水处理方法则内含光阻剂等有机的废弃物物。水环境特性是COD高(800-1500mg/L)、氟化物有机废气浓度高(200-400mg/L)、浮悬物多且内含氢化物发生器高价属。
处置技术标准流程
运用"物理化学预进行整理+血生化进行整理+高度进行整理"的组合成生产工艺:
可以调节池义均水污染水流量
混凝土结晶清理悬浮物物和悬浊液元素
生物学析出法特意治理 氟化物,添加钙盐养成氟化钙析出
电离酸性反应池改善污水可血生化性
碰触防氧化池降解塑料生物碳感染物
可溶性炭溶解塔确定进一步进行处理
膜分离处理设备为了确保满水后土质安全
重要性含铜化工废水简单设有阴离子传递程序,收集有附加值的金属材质铜。
终究疗效
品牌完工后正常运行动态平衡,满水后COD<50mg/L,氟化物溶度<5mg/L,铜阴阳离子溶度<0.3mg/L,数据来指标图均远低于国家地区《智能电子工业企业水污染问题物释放规则》(GB 39731-2020)。次年可可以减少COD释放约300吨,氟化物释放约50吨,回收分类处理铜黑色金属约2吨,保证了区域环境经济条件发展与经济条件经济条件发展的互利。